Технології

З’явився новий спосіб нанесення тонких шарів атомів

З’явився новий спосіб нанесення тонких шарів атомів. Його представили вчені з США, які надихнулися пристроєм побутового зволожувача повітря.

Дослідники з Університету Алабами представили новий спосіб нанесення тонких шарів атомів в якості покриття на матеріал при температурі, близькій до кімнатної. Вчені використовували технологію ультразвукової атомізації для випаровування хімікатів, що використовуються в атомно-шаровому осадженні (ALD).

«ALD — це метод нанесення тривимірних тонких плівок, який грає важливу роль в виробництві мікроелектроніки, зокрема, таких елементів, як центральні процесори, пам’ять і жорсткі диски», — відзначають вчені. Кожен цикл ALD завдає шар глибиною в кілька атомів.

У процесах ALD зазвичай використовуються нагріті молекули в газовій фазі, які випаровуються з твердої або рідкої форми — приблизно так само, як кімнатні зволожувачі, які використовують тепло для випаровування води. Однак в цьому процесі деякі хімічні елементи нестабільні і можуть розкладатися до початку тиску пара.

«Ультразвукове розпилення, розроблене нашої дослідницькою групою, дозволяє отримувати прекурсори з низьким тиском пари, оскільки випаровування відбувалося через ультразвукові вібрації модуля. Як і у випадку з побутовим зволожувачем повітря, ультразвукове розпорошення створює туман, що складається з насиченого пара і мікрокрапель. Краплі мікронного розміру безперервно випаровуються і наносяться на поверхню матеріалу », — відзначили дослідники.

У цьому процесі використовується ультразвуковий перетворювач, поміщений в рідкий хімічний прекурсор. Після запуску пристрій починає вібрувати зі швидкістю кілька сотень разів в секунду і створює туман з матеріалу. Невеликі краплі рідини в тумані швидко випаровуються в газовому колекторі під дією вакууму і м’якої термообробки, залишаючи після себе рівний нанесений шар.

Натхнення: hightech.fm

Кнопка «Наверх»